《電子工業專用設備》雜志是部級期刊,創辦于1971年,發行周期是雙月刊。綜合影響因子0.3,中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦,中國電子科技集團公司主管。主要欄目有先進封裝技術與設備、半導體制造工藝與設備、電子專用設備研究、專用設備維護與保養等。
主管單位:中國電子科技集團公司
ISSN:1004-4507
主辦單位:中國電子科技集團公司第四十五研究所
CN:62-1077/TN
審核時間:1個月內
創刊時間:1971
全年訂價: ¥ 256.00
發行周期:雙月刊
《電子工業專用設備》于1971年創刊,主要刊登有關趨勢與展望、專題報道、IC前沿制程、封裝與測試、行業快訊、新技術應用、企業介紹等,雜志與時俱進,開拓進取,保持優勢,敢于爭先,是一本公開發行的綜合性雙月刊。
《電子工業專用設備》榮獲2001~2002年度標準化規范化部級獎、獲2003~2004年度出版質量部級獎,中國電子科技文摘收錄期刊。
[1]帶圈數字與腳注內容之間空一個字符。對文章中所引用的資料第一次進行注釋時,必須將該文獻的作者姓名、文獻名、出版地、出版社、出版時間、資料所屬頁碼一并注出。
[2]計量單位以國家法定計量單位為準;統計學符號按國家標準《統計學名詞及符號》的規定書寫。
[3]文章應主題明確,數據可靠,圖表清晰,邏輯嚴謹,文字精練,標點符號正確。
[4]所有論文均要求有中文摘要和關鍵詞,摘要用第三人稱撰寫,分目的、方法、結果及結論四部分,完整準確概括文章的實質性內容,以150字左右為宜,關鍵詞一般3~6個。
[5]正文:要求用詞準確,語言精練、流暢,文章層次分明。
立即指數:表征期刊即時反應速率的指標,即該期刊在評價當年刊載的論文,每篇被引用的平均次數。
期刊他引率:期刊被他刊引用的次數占該刊總被 引次數的比例用以測度某期刊學術交流的廣度、專業面的寬窄以及學科的交叉程度。
影響因子:指該刊在某年被全部源刊物引證該刊前兩年發表論文的次數,與該刊前兩年所發表的全部源論文數之比。
機構名稱 | 發文量 | 主要研究主題 |
中國電子科技集團公司第四十五研究所 | 646 | 半導體;光刻;晶圓;電機;拋光 |
中國電子科技集團公司第二研究所 | 229 | 真空;電池;低溫共燒陶瓷;太陽能;封裝 |
中國電子科技集團公司第四十八研究所 | 168 | 電池;太陽能電池;太陽能;均勻性;離子注入 |
中國電子科技集團公司第四十六研究所 | 118 | 單晶;硅單晶;硅片;晶片;區熔 |
電子工業部 | 115 | 半導體;光刻;曝光機;切片;切片機 |
北京中電科電子裝備有限公司 | 92 | 晶圓;劃片;劃片機;鍵合;封裝 |
中華人民共和國工業和信息化部 | 75 | 光刻;電路;電子專用設備;集成電路;半導體 |
中國電子科技集團公司 | 68 | 電路;集成電路;化學機械拋光;機械拋光;晶片 |
中國電子科技集團第十三研究所 | 66 | 光刻;刻蝕;激光;光刻機;投影光刻 |
中國科學院 | 54 | 光刻;光刻機;電路;半導體;電子束曝光 |
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